特許
J-GLOBAL ID:201103031913755606

流体移送装置を備えた排水処理装置、排水処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 岡田 英彦 ,  池田 敏行 ,  岩田 哲幸 ,  中村 敦子
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-385929
公開番号(公開出願番号):特開2002-186980
特許番号:特許第4391006号
出願日: 2000年12月19日
公開日(公表日): 2002年07月02日
請求項(抜粋):
【請求項1】 吸入管および移送管と、該吸入管に接続されたエアー供給手段とを備え、前記エアー供給手段から吸入管内へエアーを供給することで、エアー流によって前記吸入管から流体を吸入し、該流体を前記移送管を介して移送する流体移送装置を備える排水処理装置であって、 前記排水処理装置は、微生物を着床させた粒状担体が充填された処理槽と、該処理槽内に設けられた第1および第2散気部とを有し、 前記エアー供給手段は、前記吸入管へ異なる量のエアーを切り換えて供給する複数のエアー供給管を備え、前記吸入管へのエアー供給量を可変とすることで、そのエアー供給量に対応して流体の移送量が変更されるように構成されているとともに、前記吸入管および前記第1散気部へ所定量のエアーを供給する第1のエアー供給管と、前記吸入管および前記第2散気部へ前記第1のエアー供給管とは異なる量のエアーを供給する第2のエアー供給管とによって構成されており、 前記吸入管と前記第1のエアー供給管との接続部の設置高さが、前記第1散気部の設置高さと同一であり、前記吸入管と前記第2のエアー供給管との接続部の設置高さが、前記第2散気部の設置高さと同一であることを特徴とする排水処理装置。
IPC (4件):
C02F 3/00 ( 200 6.01) ,  C02F 1/00 ( 200 6.01) ,  C02F 3/06 ( 200 6.01) ,  F04F 1/18 ( 200 6.01)
FI (4件):
C02F 3/00 F ,  C02F 1/00 L ,  C02F 3/06 ZAB ,  F04F 1/18 A
引用特許:
審査官引用 (6件)
  • 汚水浄化槽
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-150536   出願人:日立化成工業株式会社
  • 汚水浄化槽
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-156703   出願人:日立化成工業株式会社
  • 特開平4-367787
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