特許
J-GLOBAL ID:201103032622399272
リソグラフィ投影装置およびそれを使用したデバイスの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (7件):
稲葉 良幸
, 大賀 眞司
, 大貫 敏史
, 浅村 皓
, 浅村 肇
, 山本 貴和
, 岩本 行夫
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-385644
公開番号(公開出願番号):特開2001-223159
特許番号:特許第3913468号
出願日: 2000年12月19日
公開日(公表日): 2001年08月17日
請求項(抜粋):
【請求項1】 リソグラフィ投影装置において、
放射線の投影ビームを供給するための照明システムと、
所望のパターンに従ってこの投影ビームをパターニングすることが出来るパターニング手段を保持するための第1物体テーブルと、
各基板を保持するための第2および第3可動物体テーブルであって、少なくとも第1および第2作業区域を含む共通の移動範囲に亘って動き得るテーブルと、
パターン化したビームを基板の目標部分上に結像するための投影システムと、
前記第2および第3物体テーブルを動かすためのテーブル位置決め手段とを含み、
前記第2および第3物体テーブル間の衝突を避けるために前記第2および第3物体テーブルの少なくとも一つの運動を物理的に制限する衝突防止手段を有し、前記衝突防止手段が、各々がそれぞれ前記第1および第2作業区域に隣接する第1および第2位置間を動き得る第1および第2シャトルを含み、該シャトルは、一つが第1位置から第2位置へ動くと、もう一つが第2位置から第1位置へ動き、各々が前記第2および第3物体テーブルの異なるものに結合されているときだけ動けるように連結されていることを特徴とするリソグラフィ投影装置。
IPC (3件):
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G03F 7/22 ( 200 6.01)
, G03F 9/00 ( 200 6.01)
FI (3件):
H01L 21/30 516 B
, G03F 7/22 H
, G03F 9/00 H
引用特許:
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