特許
J-GLOBAL ID:201103032646172210

微細構造素子の作製方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高山 道夫
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-336171
公開番号(公開出願番号):特開2003-142695
特許番号:特許第4046175号
出願日: 2001年11月01日
公開日(公表日): 2003年05月16日
請求項(抜粋):
【請求項1】 構造要素として微細な梁を有し、その弾性的な変位あるいは機械的な運動を検出もしくは駆動することを、動作機構の少なくとも一部として有する微細構造素子の作製方法において、 基板として用いる固体結晶材料の表面に、表面処理を行うことによって単原子ステップあるいは単分子ステップを形成し、その後、前記固体結晶材料を結晶成長させることにより、前記単原子ステップあるいは単分子ステップの束を形成する第1の工程と、 前記ステップの束に沿って、梁を構成するための梁材料を、選択的に成長させる第2の工程と、 前記梁材料の成長後、その下部の前記固体結晶材料のみを、選択的エッチングにより取り除き、前記梁材料からなる梁を形成する第3の工程とを含むことを特徴とする微細構造素子の作製方法。
IPC (5件):
H01L 29/84 ( 200 6.01) ,  B81B 3/00 ( 200 6.01) ,  B81C 1/00 ( 200 6.01) ,  G01P 15/12 ( 200 6.01) ,  H01L 21/308 ( 200 6.01)
FI (5件):
H01L 29/84 Z ,  B81B 3/00 ,  B81C 1/00 ,  G01P 15/12 ,  H01L 21/308 C
引用特許:
審査官引用 (1件)

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