特許
J-GLOBAL ID:201103032687807262

成膜方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 牧野 剛博 ,  高矢 諭 ,  松山 圭佑 ,  福田 充広
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-008806
公開番号(公開出願番号):特開2002-217131
特許番号:特許第3546019号
出願日: 2001年01月17日
公開日(公表日): 2002年08月02日
請求項(抜粋):
【請求項1】成膜対象である基板の表面を不活性ガスのプラズマにさらすとともに、膜材料であるアルミニウムをプラズマによってイオン化して前記基板の表面に入射させる成膜方法であって、成膜に際して前記基板に入射するアルミニウムイオンのエネルギーは、30から90eVであることを特徴とする成膜方法。
IPC (4件):
H01L 21/285 ,  C23C 14/14 ,  C23C 14/32 ,  H01L 21/28
FI (4件):
H01L 21/285 S ,  C23C 14/14 B ,  C23C 14/32 B ,  H01L 21/28 301 R
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • アルミニウム膜被着物
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-026115   出願人:株式会社クラレ, 日新電機株式会社
  • 特開昭63-051630
  • 成膜装置及び方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-089758   出願人:住友重機械工業株式会社

前のページに戻る