特許
J-GLOBAL ID:201103032834299561

重合性ブラシにおける高分子のアレイおよびそれを調製するための方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 秀策
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-266267
公開番号(公開出願番号):特開2001-131208
特許番号:特許第3618285号
出願日: 2000年09月01日
公開日(公表日): 2001年05月15日
請求項(抜粋):
【請求項1】高分子アレイを調製する方法であって、以下の工程:(a)1以上のフリーラジカルイニシエーターが共有結合している基材を提供する工程であって、ここで、各フリーラジカルイニシエーターが、該基材から遠位にラジカル生成部位を有する、工程;(b)該共有結合した基材を、該イニシエーターのラジカル生成部位からのフリーラジカルリビング重合を促進する条件下で、モノマーと接触させて、重合性ブラシを形成する工程、および(c)該重合性ブラシに複数の高分子を共有結合する工程を包含する、方法。
IPC (9件):
C08F 2/00 ,  C08F 20/10 ,  C08F 20/54 ,  C12M 1/00 ,  C12M 1/40 ,  C07H 21/00 ,  C07H 21/04 ,  C12N 15/09 ,  C12Q 1/68
FI (9件):
C08F 2/00 C ,  C08F 20/10 ,  C08F 20/54 ,  C12M 1/00 A ,  C12M 1/40 B ,  C12N 15/00 ZNA A ,  C07H 21/00 ,  C07H 21/04 A ,  C12Q 1/68 A
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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