特許

J-GLOBAL ID：201103033176401671

回折像取得方法、及び荷電粒子線装置

発明者： 土橋 高志 ,  高口 雅成 ,  上村 理 ,  太田 洋也 ,  郷原 一寿
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  国立大学法人北海道大学
代理人 (1件)： 平木 祐輔
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2009056960
公開番号（公開出願番号）：WO2009-123311
出願日： 2009年04月03日
公開日（公表日）： 2009年10月08日
要約：

本発明の荷電粒子線顕微装置は、既知の構造を持つ試料(22)に荷電粒子線を平行に照射して得られる回折像において、試料の構造を反映した回折像のスポット間距離(r)を測定して、回折角度(θ)に依存した試料と検出器間の距離(L)の変化を補正する。 これにより、回折像において光軸からの離軸距離で変化する歪みを補正でき、回折像のスポット位置の正確な解析を行うことにより精度の高い構造解析が可能となった。

請求項（抜粋）：

荷電粒子線を試料に照射し、試料から発生する荷電粒子線を検出して試料の回折像を取得する回折像取得方法であって、 所定の測定条件で第1の試料の回折像を取得し、前記第1の試料における回折像の歪みを測定する工程と、 前記第1の試料における回折像の歪みを補正するための補正パラメータを算出する工程と、 前記所定の測定条件で第2の試料の回折像を取得する工程と、 前記第1の試料に関する前記補正パラメータを用いて、前記第2の試料の回折像の歪みを補正する工程と、 を備えることを特徴とする回折像取得方法。

IPC (2件)：

H01J 37/153 ,  H01J 37/22

FI (3件)：

H01J37/153 A ,  H01J37/22 501A ,  H01J37/22 501Z

Fターム (1件)：

5C033HH08

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 電子顕微方法およびそれを用いた電子顕微鏡
  公報種別：再公表公報   出願番号：JP2005009228   出願人：国立大学法人北海道大学