ホログラム素子

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西村征生
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-099463
公開番号（公開出願番号）：特開2000-292617
特許番号：特許第3371846号
出願日： 1999年04月06日
公開日（公表日）： 2000年10月20日
請求項（抜粋）：

【請求項1】入射光の偏光方向に依存して透過光の偏光成分間に位相差が生じる領域を含み、かつ全体として前記透過光の偏光成分間の位相差が異なる複数の領域が基板上に略周期的に形成された、前記入射光の偏光成分に依存して異なる回折効率を有するホログラム素子において、前記略周期的に形成された複数の領域の一周期内における少なくとも一つの前記領域が前記入射光の波長以下の一次元周期構造を有する凹凸形状の形成領域であり、かつ該凹凸形状の形成領域では屈折率の異なる等方性媒質からなる多層膜が該屈折率の配列が周期的になるように積層されていることを特徴とするホログラム素子。

IPC (3件)：