特許
J-GLOBAL ID：201103033473734795
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
岩橋 文雄
, 内藤 浩樹
, 永野 大介
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-113691
公開番号（公開出願番号）：特開2002-313782
特許番号：特許第3814492号
出願日： 2001年04月12日
公開日（公表日）： 2002年10月25日
請求項（抜粋）：
【請求項1】処理対象物のプラズマ処理を行うプラズマ処理装置であって、前記処理対象物を収容しプラズマ処理を行う処理室と、この処理室内を真空排気する真空排気手段と、処理室内にプラズマ発生用ガスをガス供給路を通じて供給するガス供給手段と、処理室内でプラズマを発生させるプラズマ発生手段とを備え、前記ガス供給手段は、プラズマ発生用ガスの供給源からのガス供給路を開閉するガス開閉バルブと、前記ガス開閉バルブの下流の前記ガス供給路においてプラズマ発生用ガスの流量を検出する流量検出部と、前記流量検出部の下流の前記ガス供給路に設けられ開度調整が可能な流量制御バルブと、処理室内に供給されるプラズマ発生用ガスの流量を指令する流量設定指令信号と前記流量検出部による流量検出結果とに基づいて前記流量制御バルブの開度を制御するフィードバック制御部と、前記流量設定指令信号を出力するとともに前記ガス開閉バルブの開閉を制御する制御部とを備え、前記制御部は、少なくとも前記ガス開閉バルブを閉状態から開に作動させるときには、前記流量設定指令信号を零流量に設定して出力することにより前記流量制御バルブを閉じておき、その後前記流量設定指令信号を所定流量に設定して出力するように制御することを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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