特許

J-GLOBAL ID：201103034018755560

偏光フィルムの製造方法

発明者： 網谷 圭二
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (1件)： 深井 敏和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-081034
公開番号（公開出願番号）：特開2011-215216
出願日： 2010年03月31日
公開日（公表日）： 2011年10月27日
要約：

【課題】良好な光学特性を有する偏光フィルムを製造する方法を提供する。 【解決手段】ポリビニルアルコール系フィルム10を膨潤処理、染色処理、ホウ酸処理、洗浄処理の順に処理する工程の前または工程中に2つのニップロール間の周速差を利用して一軸延伸を行う偏光フィルムの製造方法において、前記ホウ酸処理工程の直前に、ホウ酸処理工程と同一の処理液4に浸漬しつつ、気中および液中の順に配置された2つのニップロール3、3'により一軸延伸を行う延伸工程を設け、該工程での浸漬直前のフィルム幅に対する浸漬後のフィルム幅の減少率を6%以下にするものである。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤処理、染色処理、ホウ酸処理、洗浄処理の順に処理する工程の前または工程中に2つのニップロール間の周速差を利用して一軸延伸を行う偏光フィルムの製造方法において、 前記ホウ酸処理工程の直前に、ホウ酸処理工程と同一の処理液に浸漬しつつ、気中および液中の順に配置された2つのニップロールにより一軸延伸を行う延伸工程を設け、該工程での浸漬直前のフィルム幅に対する浸漬後のフィルム幅の減少率を6%以下にすることを特徴とする偏光フィルムの製造方法。

IPC (2件)：

G02B 5/30 ,  B29C 55/06

FI (2件)：

G02B5/30 ,  B29C55/06

Fターム (27件)：

2H149AA02 ,  2H149AB02 ,  2H149BA02 ,  2H149BB06 ,  2H149BB07 ,  2H149BB08 ,  2H149BB09 ,  2H149BB13 ,  2H149BB15 ,  2H149BB22 ,  2H149CA02 ,  2H149EA12 ,  2H149FA03W ,  4F210AA19 ,  4F210AG01 ,  4F210AH73 ,  4F210AR07 ,  4F210AR11 ,  4F210AR12 ,  4F210AR13 ,  4F210AR15 ,  4F210AR20 ,  4F210QA03 ,  4F210QC02 ,  4F210QD07 ,  4F210QD08 ,  4F210QW31

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 偏光フィルムの製造方法、偏光板および光学積層体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-000524   出願人：住友化学株式会社
• 偏光子の製造方法、偏光子、偏光板および画像表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-036621   出願人：日東電工株式会社
• 偏光フィルムの製造方法および製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-104279   出願人：株式会社日本製鋼所, 株式会社久保設計