特許
J-GLOBAL ID:201103034386193610
AlTi系合金スパッタリングターゲット及び耐摩耗性AlTi系合金硬質皮膜並びに同皮膜の形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (2件):
小越 勇 (外1名)
, 小越 勇
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-106118
特許番号:特許第3084402号
出願日: 1999年04月14日
請求項(抜粋):
【請求項1】 AlTi系合金スパッタリングターゲットの組成が、AlxTi1-x-y-zMyRz(但し、MはW又はMoから選択した元素の1種以上、RはY、Ce、La、ミッシュメタル等の希土類元素から選択した元素の1種以上、0.05≦x≦0.7、0.02≦y≦0.25、0.0005≦z≦0.05)であることを特徴とするAlTi系合金スパッタリングターゲット。
IPC (4件):
C23C 14/34
, C22C 14/00
, C22C 21/00
, C23C 14/06
FI (4件):
C23C 14/34 A
, C22C 14/00 Z
, C22C 21/00 N
, C23C 14/06 L
引用特許:
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