特許

J-GLOBAL ID：201103034476179446

基板洗浄方法及び基板洗浄装置

発明者： 稲垣 靖史 ,  清水 峰夫 ,  藤谷 吉宏
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (3件)： 小池 晃 ,  田村 榮一 ,  伊賀 誠司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-240133
公開番号（公開出願番号）：特開2002-045805
特許番号：特許第4604320号
出願日： 2000年08月08日
公開日（公表日）： 2002年02月12日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 弗化アンモニウム水溶液又は弗化アンモニウム水溶液と弗化水素酸との混合液を洗浄液として基板の洗浄を行う基板洗浄装置を用いた基板洗浄方法において、 上記基板洗浄装置は、 上記洗浄液を収容し、上記基板の洗浄処理を行う基板処理部と、 上記基板を収容する基板キャリア部と、 上記基板キャリア部を上下動させて上記基板処理部に搬送する搬送部とを備え、 上記搬送部は、上記洗浄液の使用時間の経過に応じて上記基板の洗浄時間を変化させる制御機構を有しており、上記基板の洗浄を行う際に、該制御機構により該洗浄時間が指示され、上記基板キャリア部の上下動を制御することによって、洗浄液の使用時間の経過に伴って基板の洗浄時間を短くすることを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (2件)：

B08B 3/08 ( 200 6.01) ,  H01L 21/304 ( 200 6.01)

FI (3件)：

B08B 3/08 Z ,  H01L 21/304 642 B ,  H01L 21/304 648 G

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-341465   出願人：ソニー株式会社

審査官引用 (1件)

• 洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-341465   出願人：ソニー株式会社