特許

J-GLOBAL ID：201103034561874536

光解離性保護基

発明者： 垣内 喜代三 ,  堤 健 ,  木谷 悟 ,  菅原 一起 ,  御所 佳典
出願人/特許権者： 国立大学法人 奈良先端科学技術大学院大学
代理人 (1件)： 特許業務法人三枝国際特許事務所
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2009050102
公開番号（公開出願番号）：WO2009-113322
出願日： 2009年01月08日
公開日（公表日）： 2009年09月17日
要約：

本発明は、光照射下の穏和な条件下で脱保護できる光解離性保護基を提供することにある。具体的には、該光解離性保護基を用いて反応性官能基(例えば、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、カルボニル基、リン酸ジエステル基等)を保護した後、中性条件下、光照射のみで該光解離性保護基を脱保護する方法を提供する。 一般式(3):(式中、Ar1は置換基を有してもよい芳香環又はヘテロ芳香環、Ar1は置換基を有してもよいアリール基又はヘテロアリール基、Xは脱離基、nは1又は2の整数を示す。)で表される化合物、並びに該化合物を用いたアミノ基等の保護及び脱保護方法に関する。

請求項（抜粋）：

一般式(3):

IPC (4件)：

C07D 335/06 ,  C07H 13/12 ,  C07D 409/04 ,  C07J 33/00

FI (4件)：

C07D335/06 ,  C07H13/12 ,  C07D409/04 ,  C07J33/00

Fターム (25件)：

4C023KA03 ,  4C057BB02 ,  4C057HH06 ,  4C063AA01 ,  4C063BB01 ,  4C063CC95 ,  4C063DD76 ,  4C063DD81 ,  4C063EE10 ,  4C091AA01 ,  4C091BB06 ,  4C091CC01 ,  4C091DD01 ,  4C091EE05 ,  4C091FF01 ,  4C091GG01 ,  4C091HH01 ,  4C091JJ03 ,  4C091KK00 ,  4C091LL01 ,  4C091MM03 ,  4C091NN01 ,  4C091PA02 ,  4C091PA09 ,  4C091QQ01

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 発蛍光性光解離保護基
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-185167   出願人：株式会社分子バイオホトニクス研究所