特許
J-GLOBAL ID：201103034656930018
プラズマ発生装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
, 下山 治
, 永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-024421
公開番号（公開出願番号）：特開2011-146721
出願日： 2011年02月07日
公開日（公表日）： 2011年07月28日
要約：
【課題】均一性の向上した誘導結合型プラズマ処理装置を提供する。【解決手段】複数のコイル1,2をプラズマ・チャンバの誘電体ウィンドウ上に配置し、単一の高周波発生器310で電力を供給し、単一の整合回路網320によって調整する。各コイルは平面的か、または平面的と立体的ならせん状の組合せのいずれかである。各コイルの入力端部は入力側調整コンデンサC1,C2に接続され、出力端部は出力側調整コンデンサを介して接地に終端される。プラズマへの高周波の最大誘電結合の場所は、主として出力側コンデンサによって決定され、入力側コンデンサは、主として各コイルへの電流の大きさを調整するために使用される。各コイル内の電流の大きさおよび最大誘導結合の場所を調整することによって、異なる半径方向方位角領域内のプラズマ密度を変化させ制御することができ、したがって半径方向に方位角的に均一なプラズマを得ることができる。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
誘導結合型プラズマを発生させるための装置であって、
チャンバ中に電磁界経路を形成するウィンドウと該チャンバ中にプロセス・ガスを導入するように構成されたプロセス・ガス供給源とを有するプラズマ反応チャンバと、
前記チャンバのウィンドウに近接して配設された少なくとも第1および第2のアンテナ・セグメントを含む高周波アンテナと、前記アンテナ・セグメントに結合され、前記アンテナ・セグメント中の高周波電流を共振させるように構成された高周波発生源と、を備え、
前記高周波電流によって誘導された電磁界は、前記ウィンドウを通過し、プロセス・ガスを励起してイオン化し、それによりチャンバ内にプラズマを発生させ、かつ、
前記第1のアンテナ・セグメントが、前記第2のアンテナ・セグメントを取り囲んでいることを特徴とする装置。
IPC (5件)：
H01L 21/306
, H05H 1/46
, H01L 21/205
, H01L 21/31
, C23C 16/505
H01L21/302 101C
, H05H1/46 L
, H01L21/205
, H01L21/31 C
, C23C16/505
4K030FA04
, 4K030KA30
, 4K030LA15
, 5F004AA01
, 5F004BA20
, 5F004BB18
, 5F004BD04
, 5F045AA08
, 5F045BB02
, 5F045DP02
, 5F045DQ10
, 5F045EH11
