特許
J-GLOBAL ID：201103034991605717

遷移金属化合物、配位性化合物、オレフィン重合用触媒及びそれを用いたポリオレフィンの製造方法

発明者：
渡辺 真人

渡辺 真人 について

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岡田 隆志

岡田 隆志 について

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佐藤 守彦

佐藤 守彦 について

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羽村 敏

羽村 敏 について

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田靡 正雄

田靡 正雄 について


出願人/特許権者：
東ソー株式会社

東ソー株式会社 について


公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-384847
公開番号（公開出願番号）：特開2002-255918
特許番号：特許第4099986号
出願日： 2001年12月18日
公開日（公表日）： 2002年09月11日
請求項（抜粋）：
【請求項1】下記一般式(2) (ここで、Mは周期表3族〜12族より選ばれる遷移金属原子であり、Xは水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20の炭化水素基、トリフルオロメタンスルホネート基、p-トルエンスルホネート基、テトラキス{3,5-ビス(トリフルオロメチル)フェニル}ボレートアニオン、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートアニオン、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)アルミネートアニオン、SbF6アニオン又はPF6アニオンを示し、qが2以上の時、Xは互いに同じでも異なっていてもよい。R1は水素原子、炭素数1〜20の炭化水素基、ハロゲン原子を含む炭素数1〜20の炭化水素基、フェロセニル基、メチルフェロセニル基、ジメチルフェロセニル基又はtert-ブチルフェロセニル基を示し、R2は水素原子、炭素数1〜20の炭化水素基、ハロゲン原子,ケイ素原子,窒素原子,酸素原子若しくは硫黄原子を含む炭素数1〜20の炭化水素基、フェロセニル基、メチルフェロセニル基、ジメチルフェロセニル基、tert-ブチルフェロセニル基又はテトラメチルシクロペンタジエニル基を示す。R3は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20の炭化水素基、トリメチルシリル基、tert-ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、窒素原子,酸素原子,ハロゲン原子若しくは硫黄原子を含む炭素数1〜20炭化水素基を示す。mが2以上の時、R3は互いに同じでも異なっていてもよい。R4は水素原子、炭素数1〜20の炭化水素基、トリメチルシリル基、tert-ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、炭素数1〜20の炭化水素基を有するホスフィノ基、炭素数1〜20の炭化水素基を有するオキシ基、炭素数1〜20の炭化水素基を有するチオ基、又は窒素原子,リン原子,酸素原子,ハロゲン原子若しくは硫黄原子を含む炭素数1〜20の炭化水素基を示し、nが2以上の時、R4は互いに同じでも異なっていてもよい。R3とR4が結合を有することもできる。Lはエチレン、プロピレン、スチレン、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、アセトニトリル、ベンゾニトリル、トリメチルアミン、トリエチルアミン、N,N-ジメチルアニリン、N-メチルジフェニルアミン、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィンである。mは1〜3の整数を示し、nは1〜5の整数を示す。qは1〜3の整数を示し、rは0〜3の整数を示す。)で表される遷移金属化合物。
IPC (8件)：
C07C 251/18 ( 200 6.01) ,  C07D 207/335 ( 200 6.01) ,  C07F 17/02 ( 200 6.01) ,  C08F 4/60 ( 200 6.01) ,  C08F 4/70 ( 200 6.01) ,  C08F 10/00 ( 200 6.01) ,  C07F 15/00 ( 200 6.01) ,  C07F 15/04 ( 200 6.01)
FI (8件)：
C07C 251/18 ,  C07D 207/335 ,  C07F 17/02 ,  C08F 4/60 ,  C08F 4/70 ,  C08F 10/00 ,  C07F 15/00 C ,  C07F 15/04
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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引用文献：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
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