プラズマ処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：田宮寛祉
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-361964
公開番号（公開出願番号）：特開2001-181848
特許番号：特許第4601104号
出願日： 1999年12月20日
公開日（公表日）： 2001年07月03日
請求項（抜粋）：

【請求項1】容量結合型平行電極構造を備えるCVDまたはエッチング処理のためのプラズマ処理装置であって、反応容器と、前記反応容器内に設けられた上部電極と、前記反応容器内に設けられた基板ホルダと、前記上部電極に形成された複数の円形形状の柱状突起と、前記柱状突起に対応する位置で、かつ前記柱状突起の間の底部より前記突起の反対側に配置された複数のマグネットであって、互いに隣接するマグネットは異なる磁極であると共に、前記柱状突起の円形よりも小さい円形の断面形状を有する該複数のマグネットとを有し、前記複数の柱状突起は、前記上部電極の中心に向かって低くなるように形成されていることを有することを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5件)：

C23C 16/509 ( 200 6.01) , H01L 21/205 ( 200 6.01) , H01L 21/3065 ( 200 6.01) , H05H 1/02 ( 200 6.01) , H05H 1/46 ( 200 6.01)

FI (5件)：

C23C 16/509 , H01L 21/205 , H01L 21/302 101 B , H05H 1/02 , H05H 1/46 M

引用特許：

出願人引用 (4件)

特開昭61-284572
特開平1-099213
気相反応装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-126829 出願人：株式会社半導体エネルギー研究所

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審査官引用 (5件)

特開平1-099213
特開昭61-284572
特開平1-099213

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