特許
J-GLOBAL ID：201103035425618298
粒子分析装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西野 卓嗣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-198593
公開番号（公開出願番号）：特開2011-133460
出願日： 2010年09月06日
公開日（公表日）： 2011年07月07日
要約：
【課題】光を透過する粒子であってもコントラストが高い画像の取得と、少なくとも前方散乱光に基づく粒子の特徴パラメータの取得が可能な粒子分析装置を提供する。【解決手段】粒子を含む試料流を形成するフローセルと、試料流に光を照射するための第一および第二光源と、第一および第二光源からの光を試料流に導く照射光学系と、フローセルを介して照射光学系とは反対側に配置され、かつ照射光学系から出射する光の光路上に配置される遮光板と、第一光源からの直接光が遮光板によって遮光された位置に配置され、粒子からの前方散乱光を検出するフォトダイオードと、第二光源からの光が遮光板によって遮光された位置に配置され、試料流中の粒子を撮像するCCDカメラと、を備える粒子分析装置を提供する。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
粒子を含む試料流を形成するフローセルと、
試料流に光を照射するための第一および第二光源と、
第一および第二光源からの光を試料流に導く照射光学系と、
フローセルを介して照射光学系とは反対側に配置され、かつ照射光学系から出射する光の光路上に配置される遮光部材と、
遮光部材によって第一光源からの直接光が遮光された位置に配置され、第一光源からの光によって試料流中の粒子からの前方散乱光を検出する検出部と、
検出部からの信号に基づき粒子の特徴パラメータを取得する制御部と、
遮光部材によって第二光源からの直接光の少なくとも一部が遮光された位置に配置され、第二光源からの光によって試料流中の粒子を撮像する撮像部と、を備えた粒子分析装置。
IPC (1件)：
FI (2件)：
G01N15/14 G
, G01N15/14 P
