特許
J-GLOBAL ID：201103035513420490
高分子複合材料
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大川 宏
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-008268
公開番号（公開出願番号）：特開2000-204271
特許番号：特許第3363106号
出願日： 1999年01月14日
公開日（公表日）： 2000年07月25日
請求項（抜粋）：
【請求項1】高分子材料を主要成分とする基材と、エマルジョンを噴霧して燃焼させて形成され中空空間を有し前記基材の少なくとも一部に分散され前記中空空間を形成する皮殻の厚みが10〜35nmの中空状酸化物粒子とを備えていることを特徴とする高分子複合材料。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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