特許

J-GLOBAL ID：201103036104755893

日射遮蔽膜形成用微粒子の製造方法

発明者： 長南 武 ,  久野 裕子
出願人/特許権者： 住友金属鉱山株式会社
代理人 (1件)： 上田 章三
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-060204
公開番号（公開出願番号）：特開2002-265236
特許番号：特許第3915880号
出願日： 2001年03月05日
公開日（公表日）： 2002年09月18日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 日射遮蔽膜形成用微粒子の製造方法において、 平均粒径が100nm以下のインジウム錫酸化物微粒子とタングステン酸化物微粒子またはレニウム酸化物微粒子とを混合し、アルコ-ルを含む不活性ガス雰囲気下、または、還元性ガスと不活性ガスとの混合ガス雰囲気下で加熱処理することを特徴とする日射遮蔽膜形成用微粒子の製造方法。

IPC (6件)：

C03C 17/25 ( 200 6.01) ,  C01G 15/00 ( 200 6.01) ,  C01G 19/00 ( 200 6.01) ,  C09D 5/32 ( 200 6.01) ,  G02B 5/26 ( 200 6.01) ,  B05D 7/24 ( 200 6.01)

FI (6件)：

C03C 17/25 A ,  C01G 15/00 B ,  C01G 19/00 A ,  C09D 5/32 ,  G02B 5/26 ,  B05D 7/24 303 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 紫外線、近赤外線遮へい用インジウム-錫酸化物粉末とこれを用いた紫外線、近赤外線遮へいガラスおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-145230   出願人：住友金属鉱山株式会社, 東北化工株式会社
• 透明導電膜形成用処理液およびその処理液を用いた透明導電膜の作製方法ならびに得られた透明導電膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-290403   出願人：住友金属鉱山株式会社