特許
J-GLOBAL ID：201103036261377576
高周波スパッタリング装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
岩田 今日文
, 瀬戸 さより
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-072805
公開番号（公開出願番号）：特開2000-265267
特許番号：特許第4444387号
出願日： 1999年03月17日
公開日（公表日）： 2000年09月26日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 排気系を有する処理チャンバーと、前側の被スパッタ面が処理チャンバー内に露出するように設けられたターゲットと、ターゲットをスパッタするための高周波電力をターゲットに与える高周波電源と、ターゲットの背後に設けられた磁石ユニットと、磁石ユニットを回転させる回転機構と、スパッタによってターゲットから放出されたスパッタ粒子が到達する処理チャンバー内の所定位置に基板を保持する基板ホルダーとを備えた高周波スパッタリング装置であって、
ターゲットに与えられた前記高周波電力によるノイズが前記回転機構に伝わらないようにするシールドが設けられており、前記シールドは、ターゲット背後に設けられたベース板であり、該ベース板がターゲットから絶縁され、アースに落とされていることを特徴とする高周波スパッタリング装置。
IPC (2件)：
C23C 14/34 ( 200 6.01)
, C23C 14/35 ( 200 6.01)
C23C 14/34 T
, C23C 14/35 B
