特許
J-GLOBAL ID：201103036287738194

廃棄物処理装置用水処理装置

発明者：
吉川 潤

吉川 潤 について

, 
今井 潔

今井 潔 について

, 
渡邊 敬信

渡邊 敬信 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 木内 光春
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-319000
公開番号（公開出願番号）：特開2001-129595
特許番号：特許第4117988号
出願日： 1999年11月10日
公開日（公表日）： 2001年05月15日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 湿式ガス洗浄装置から排出される洗浄水を貯水すると共に、洗浄水のpHを金属水酸化物が得られる適正な範囲に調製する貯槽と、この貯槽からの洗浄水を受け入れて貯水し、洗浄水に含まれる金属水酸化物および全有機炭素成分を分離する沈殿層と、沈殿槽から排出される金属水酸化物を含有するスラリーおよび全有機炭素成分との混合物を圧搾して水分を除去し、乾燥固形物を生成する脱水装置とを備えてなる廃棄物処理装置用水処理装置において、 前記沈殿槽が仕切り部材で互いに隔てられる第1沈殿槽および第2沈殿槽と、 この第1沈殿槽および第2沈殿槽に個別に洗浄水を供給する入口弁と、 前記第1沈殿槽および第2沈殿槽から個別に処理水を排出する出口弁とを備えることを特徴とする廃棄物処理装置用水処理装置。
IPC (8件)：
C02F 9/00 ( 200 6.01) ,  B01D 61/02 ( 200 6.01) ,  B01D 61/14 ( 200 6.01) ,  C02F 1/24 ( 200 6.01) ,  C02F 1/44 ( 200 6.01) ,  C02F 1/62 ( 200 6.01) ,  C02F 1/66 ( 200 6.01) ,  C02F 11/12 ( 200 6.01)
FI (19件)：
C02F 9/00 502 Z ,  C02F 9/00 502 E ,  C02F 9/00 502 G ,  C02F 9/00 502 P ,  C02F 9/00 503 C ,  C02F 9/00 503 G ,  C02F 9/00 504 B ,  C02F 9/00 504 E ,  B01D 61/02 ,  B01D 61/14 ,  C02F 1/24 ZAB C ,  C02F 1/44 K ,  C02F 1/62 Z ,  C02F 1/66 510 P ,  C02F 1/66 521 A ,  C02F 1/66 522 A ,  C02F 1/66 530 B ,  C02F 1/66 540 Z ,  C02F 11/12 D
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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