特許
J-GLOBAL ID：201103036581573683
疎水性二酸化珪素微粉末の製造方法
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
小島 隆司
, 西川 裕子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-120864
公開番号（公開出願番号）：特開2001-302228
特許番号：特許第3767672号
出願日： 2000年04月21日
公開日（公表日）： 2001年10月31日
請求項（抜粋）：
【請求項1】シラン化合物の熱分解によって得られた二酸化珪素微粉末を含むガスを置換槽内に流入して、この置換槽内で上記ガス中の酸素を不活性ガスで置換することにより、上記ガス中の酸素濃度を7容量%以下に低減させ、このガスを酸素濃度が3容量%以下の流動槽内で疎水化処理剤で処理することを特徴とする疎水性二酸化珪素微粉末の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
前のページに戻る
