特許
J-GLOBAL ID：201103036594806237
有機分子自己組織化膜のパターン形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
池田 憲保
, 山崎 拓哉
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-265767
公開番号（公開出願番号）：特開2003-076036
特許番号：特許第4660700号
出願日： 2001年09月03日
公開日（公表日）： 2003年03月14日
請求項（抜粋）：
【請求項1】有機分子自己組織化膜を基板上に選択的に形成するための有機分子自己組織化膜のパターン形成方法において、
上記基板表面に、酸素プラズマ処理を実施することにより形成された清浄表面と、前記基板表面に選択的に形成すべき有機分子自己組織化膜とは異なる有機分子膜残渣を付着させることにより形成された汚染表面とを形成し、
この清浄表面上に上記有機分子自己組織化膜を選択的に形成することを特徴とする有機分子自己組織化膜のパターン形成方法。
IPC (3件)：
G03F 7/40 ( 200 6.01)
, G03F 7/42 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
G03F 7/40 521
, G03F 7/42
, H01L 21/30 502 Z
, H01L 21/30 572 A
