特許

J-GLOBAL ID：201103036616131700

クリーンルーム及びクリーンルームの空調方法

発明者： 蓑島 雅彦
出願人/特許権者： NECエレクトロニクス株式会社
代理人 (1件)： 畑 泰之
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-270464
公開番号（公開出願番号）：特開2001-093790
特許番号：特許第3476395号
出願日： 1999年09月24日
公開日（公表日）： 2001年04月06日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 所定の半導体装置生産設備、複数のウェハを内蔵して移動可能に構成されたインターフェースボックス、当該インターフェースボックスを固定的に載置して、当該インターフェースボックス内から当該ウェハを当該生産設備内に搬送するインターフェースボックスオープナー等が内部に配置されている内室部と当該内室部を取り囲み、当該内室部との間に空気循環路を形成する様に構成された外室とから構成されたクリーンルームであって、当該内室部に設けられたファンフィルターユニットを介して、当該内室部内の空気が、当該空気循環路を介して循環する様に構成されているクリーンルームに於いて、当該内室部と当該空気循環路とを循環している第1の空気流とは独立に、当該クリーンルーム外部より、清浄な第2の空気流を当該インターフェースボックスオープナーの近傍に直接供給する様に構成し、且つ、当該内室部の空気圧力と当該クリーンルーム外部の空気圧力とを検出し、当該両空気圧力の差分値に応答して、当該空気循環路内の空気の一部を排気するように構成した室内空気排気手段を設けたことを特徴とするクリーンルーム。

IPC (2件)：

H01L 21/02 ,  F24F 7/06

FI (2件)：

H01L 21/02 D ,  F24F 7/06 C

引用特許：

審査官引用 (2件)

• クリーンルーム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-249529   出願人：三菱電機株式会社
• 基板の表面処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-046338   出願人：大日本スクリーン製造株式会社