リソグラフィ投影装置およびこれを使ったデバイスの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：稲葉良幸 , 大賀眞司 , 大貫敏史 , 浅村皓 , 浅村肇 , 吉田裕 , 岩本行夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-403605
公開番号（公開出願番号）：特開2001-351855
特許番号：特許第3931039号
出願日： 2000年11月28日
公開日（公表日）： 2001年12月21日
請求項（抜粋）：

【請求項1】リソグラフィ投影装置であって、放射線の投影ビーム(PB)を供給するように配置構成された照明光学系(IL)と、マスク(MA)を保持するように配置構成された第1物体テーブル(MT)と、基板(W)を保持するように配置構成された第2物体テーブル(WT)と、前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分(C)上に結像するように配置構成された投影光学系(PL)とを含み、前記照明光学系および前記投影光学系の少なくとも一方が反射性光学素子(10)を有した、リソグラフィ投影装置において、前記反射性光学素子(10)には、該反射性光学素子(10)の位置及び/又は配向を動的に制御するための位置決めシステム(20)と、前記反射性光学素子(10)の位置及び/又は配向の変化を測定し、該変化を示す位置信号を出力するように配置構成された検知システム(40)とが設けられており、前記位置決めシステム(20)が、前記検知システム(40)の前記位置信号に応答して、駆動制御信号を発生する制御システム(50)と、前記駆動制御信号に応じて前記反射性光学素子の位置及び/又は配向の前記変化を補正するように配置構成された駆動システム(30)とを有しており、前記検知システム(40)が、前記反射性光学素子(10)の位置及び/又は配向を測定して絶対位置信号を出力するように配置構成された、容量または誘導検知手段である絶対位置検知手段(41、42)と、前記反射性光学素子の前記位置及び/又は配向の変化を測定して相対位置信号を出力するように配置構成された、干渉計型または干渉型検知手段である相対位置検知手段(43、44)を有し、前記絶対位置検知手段(41、42)はリソグラフィ投影装置の初期セットアップ時及び休止後の再セットアップ時に絶対位置信号を供給するために使用され、前記相対位置検知手段(43、44)はリソグラフィ投影装置の作動中、継続的に相対位置信号を供給するために使用される、リソグラフィ投影装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ( 200 6.01) , G01B 21/00 ( 200 6.01) , G01B 21/22 ( 200 6.01) , G02B 7/198 ( 200 6.01) , G03F 9/00 ( 200 6.01)

FI (6件)：

H01L 21/30 516 A , H01L 21/30 515 D , G01B 21/00 A , G01B 21/22 , G02B 7/18 B , G03F 9/00 H

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平3-283420
特開平3-283420
半導体露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-143962 出願人：株式会社日立製作所

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