特許
J-GLOBAL ID：201103038157245148

半導電性ゴム原料組成物の製造方法及び半導電性シームレスベルトの製造方法

発明者：
中川 隆弘

中川 隆弘 について

, 
松村 実

松村 実 について


出願人/特許権者：
東洋ゴム工業株式会社

東洋ゴム工業株式会社 について


代理人 (5件)： 特許業務法人 ユニアス国際特許事務所 ,  尾崎 雄三 ,  梶崎 弘一 ,  谷口 俊彦 ,  室之園 和人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-161474
公開番号（公開出願番号）：特開2001-343839
特許番号：特許第4257765号
出願日： 2000年05月31日
公開日（公表日）： 2001年12月14日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 加硫後のゴムの体積固有抵抗R(Ω・cm)が107〜1012Ω・cmの半導電性の範囲内であり、Rの規格最大値をRmax 、規格最小値をRmin としたとき、 logRmax -logRmin ≦1、かつRmax ≧R≧Rmin を充たす電子写真装置ゴム部材用の半導電性ゴム原料組成物の製造方法であって、 加硫後の体積固有抵抗R0が、 logR0<0.5(logRmax +logRmin ) を充たす基礎原料ゴム組成物を使用し、予め求めた添加量に基づく体積固有抵抗の変化率に基づきlogR=0.5(logRmax +logRmin )となる量のシリカ粉末を、前記基礎原料ゴム組成物に添加して混練することを特徴とする半導電性ゴム原料組成物の製造方法。
IPC (2件)：
G03G 15/16 ( 200 6.01) ,  G03G 15/02 ( 200 6.01)
FI (3件)：
G03G 15/16 ,  G03G 15/16 103 ,  G03G 15/02 101
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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