特許
J-GLOBAL ID：201103038189229608

反射防止用積層体およびその製造方法、ならびに硬化性組成物

発明者：
川合 高弘

川合 高弘 について

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漆原 英一郎

漆原 英一郎 について

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金森 太郎

金森 太郎 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


代理人 (2件)： 大渕 美千栄 ,  布施 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-100664
公開番号（公開出願番号）：特開2011-133843
出願日： 2010年04月26日
公開日（公表日）： 2011年07月07日
要約：
【課題】低屈折率性および耐擦傷性に優れた硬化膜を一度の塗布工程で形成することができる硬化性組成物、あるいは該硬化膜を有する反射防止用積層体ならびにその製造方法を提供する。【解決手段】本発明に係る反射防止用積層体は、基材上に、カルボキシル基、リン酸エステル基およびスルホ基から選択される1種以上の極性基を有する重合性化合物と、屈折率が1.40以下である粒子と、を含有し、全重合性化合物1g中におけるカルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が0.5mmol/g〜15mmol/gである硬化性組成物の硬化膜を有し、前記粒子が、前記硬化膜中の基材と接触する面とは反対の面側に偏在していることを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基材上に、 カルボキシル基、リン酸エステル基およびスルホ基から選択される1種以上の極性基を有するマトリックスと、屈折率が1.40以下である粒子と、を含有し、前記マトリックス1g中におけるカルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が0.5mmol/g〜15mmol/gである硬化膜を有し、 前記粒子が、前記硬化膜中の基材と接触する面とは反対の面側に偏在している、反射防止用積層体。
IPC (2件)：
G02B 1/11 ,  B32B 7/02
FI (2件)：
G02B1/10 A ,  B32B7/02 103
Fターム (22件)：
2K009AA10 ,  2K009AA15 ,  2K009BB24 ,  2K009BB28 ,  2K009CC09 ,  2K009DD02 ,  4F100AA20A ,  4F100AH02A ,  4F100AH04A ,  4F100AJ06B ,  4F100AK25 ,  4F100AK42B ,  4F100AT00B ,  4F100BA02 ,  4F100DE01A ,  4F100EH462 ,  4F100EJ082 ,  4F100GB41 ,  4F100JK12A ,  4F100JN06 ,  4F100JN18A ,  4F100YY00A
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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