特許
J-GLOBAL ID:201103038549087613
気相香気成分の調合方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小林 正明
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-308611
公開番号(公開出願番号):特開2002-113339
特許番号:特許第3772080号
出願日: 2000年10月10日
公開日(公表日): 2002年04月16日
請求項(抜粋):
【請求項1】不活性ガス供給槽からマスフローコントローラ及び電磁バルブを経て所定量の不活性ガスを試料瓶中の気相部に突出している不活性ガス注入管を経て複数個の試料瓶の気相部に供給する工程と、試料瓶の気相部からマスフローコントローラにより制御定量された不活性ガスと気相香気成分との混合ガスを試料瓶中の気相部に突出している送出管及び電磁バルブを経て混合室に供給する複数個の供給工程と、マスフローコントローラにより制御定量された不活性ガスを該混合ガスと同時に混合室に供給する供給工程と、不活性ガスと各気相香気成分を撹拌混合用部材を備えた混合室で撹拌混合する混合工程と、混合後の混合ガスの芳香に応じて不活性ガスの流量をマスフローコントローラにより制御定量する工程とからなることを特徴とする気相香気成分の調合方法。
IPC (4件):
B01F 3/02 ( 200 6.01)
, B01F 5/00 ( 200 6.01)
, B01F 15/02 ( 200 6.01)
, C11B 9/00 ( 200 6.01)
FI (4件):
B01F 3/02
, B01F 5/00 D
, B01F 15/02 A
, C11B 9/00 Z
引用特許:
出願人引用 (1件)
-
半導体用特殊材料ガス供給装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-315549
出願人:三菱商事株式会社, 株式会社堀場製作所, 株式会社エステック
審査官引用 (1件)
-
半導体用特殊材料ガス供給装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-315549
出願人:三菱商事株式会社, 株式会社堀場製作所, 株式会社エステック
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