露光装置及び方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤元亮輔
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-153136
公開番号（公開出願番号）：特開2002-353100
特許番号：特許第3673731号
出願日： 2001年05月22日
公開日（公表日）： 2002年12月06日
請求項（抜粋）：

【請求項1】光源から射出された光束を所定の平面に集光する集光光学系と、前記所定の平面からの光束をレチクル又はマスクに所定の倍率で結像する結像光学系と、前記レチクル又はマスクに形成されたパターンを被処理体に投影する投影光学系と、前記集光光学系と前記所定の平面との間に設けられ、前記光束の一部を分岐光束として分岐させる光分岐部材とを有する露光装置であって、前記光分岐部材の光分岐のための面と光軸に関し垂直な面との成す角度θ、前記結像光学系の結像倍率B、当該結像光学系の光射出側における最大開口数NA2が、以下に示す式を満足する露光装置 18.3°≦ θ ≦ 36.4° 1.0 ≦ |B| ≦ 2.5 0.16 ≦ NA2 ≦ 0.23 。

IPC (2件)：