特許
J-GLOBAL ID：201103038953077834
真空用ステ-ジ機構
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-123880
公開番号（公開出願番号）：特開2001-308161
特許番号：特許第4548898号
出願日： 2000年04月25日
公開日（公表日）： 2001年11月02日
請求項（抜粋）：
【請求項1】真空チャンバーを摺動自在に貫通する、平行に設けられた2つのスライド軸と、
上記真空チャンバー内において上記2つのスライド軸に橋渡しするように取り付けられたステージ基体と、
上記真空チャンバー外において上記2つのスライド軸の各々を案内するように設けられたエアースライド軸受けと
を備え、
上記ステージ基体には、回転ステージが設けられ、該回転ステージは、試料を搭載するスピンドルと、上記スピンドルのエアー軸受けと、上記スピンドルを回転駆動するアクチュエータとを有し、
上記エアースライド軸受けには、上記スライド軸の摺動面に、上記スライド軸を圧縮気体で浮上させるための第1のエアーパッドとこの第1のエアーパッドから気体を排気するための吸引部とを設け、上記エアー軸受けには、上記スピンドルの摺動面に、上記スピンドルを圧縮気体で浮上させるための第2のエアーパッドとこの第2のエアーパッドから気体を排気するための排気部とを設けてなり、
上記第2のエアーパッドへの気体の供給および該気体の排気は、上記2つのスライド軸のうち少なくとも1つの内部に設けられた空間を介して行われることを特徴とする真空用ステージ機構。
IPC (6件)：
H01L 21/68 ( 200 6.01)
, F16C 32/06 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
, G03F 7/207 ( 200 6.01)
, G12B 5/00 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
H01L 21/68 K
, F16C 32/06 C
, G03F 7/20 504
, G03F 7/207 H
, G12B 5/00 T
, H01L 21/30 541 L
