特許

J-GLOBAL ID：201103038997860110

電子線装置

発明者： 佐藤 貢 ,  水野 文夫 ,  戸所 秀男 ,  江角 真 ,  ▲高▼根 淳
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： ポレール特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-260873
公開番号（公開出願番号）：特開2002-075263
特許番号：特許第4163373号
出願日： 2000年08月25日
公開日（公表日）： 2002年03月15日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 電子源から放出された1次電子ビームを対物レンズで細く絞るビーム収束手段と、前記1次電子ビームを試料上で走査するビーム走査手段と、前記ビーム走査手段のビーム走査によって前記試料から発生する2次信号を検出する検出手段と、前記2次信号から試料像を形成する像形成手段とを備え、前記試料の走査像を得る電子線装置において、 像形成条件に連動して前記1次電子ビームの焦点ずらし量を決めるフォーカス制御量決定手段と、 前記焦点ずらし量に対応して前記1次電子ビームのフォーカス位置を制御するフォーカス制御手段と、 前記像形成手段が形成する画像を合成する枚数を決定する画像数決定手段を有し、 前記フォーカス制御量決定手段は、 所定の係数と、像倍率の逆数と、前記画像の画素サイズと、前記1次電子ビームのビーム径で決まる像分解能と、加速電圧の平方根と、の乗算に基づいて求められる第1の焦点ずらし量が、 所定の係数と、前記像分解能の二乗と、加速電圧の平方根と、プローブ電流と電子銃の輝度の比に第1の所定の定数を乗算後第2の所定の定数を和算した値の平方根の逆数と、の乗算に基づいて求められる第2の焦点ずらし量より大きくなる倍率範囲のときには、前記第1の焦点ずらし量を用いて、前記像倍率に連動してフォーカス位置を変化させ、 前記第1の焦点ずらし量によってフォーカス位置が変化する前記倍率範囲より、高い倍率範囲のときには、前記第2の焦点ずらし量を用いて前記フォーカス位置を変化させる制御を行うことを特徴とする電子線装置。

IPC (5件)：

H01J 37/21 ( 200 6.01) ,  G21K 5/00 ( 200 6.01) ,  G21K 5/04 ( 200 6.01) ,  H01J 37/22 ( 200 6.01) ,  H01J 37/28 ( 200 6.01)

FI (6件)：

H01J 37/21 B ,  G21K 5/00 A ,  G21K 5/00 R ,  G21K 5/04 M ,  H01J 37/22 502 H ,  H01J 37/28 B

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 走査顕微鏡
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-369784   出願人：日本電子株式会社
• 電子線装置および走査電子顕微鏡
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-106405   出願人：株式会社日立製作所
• 画像処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-088620   出願人：エヌティエヌ株式会社
• 回路パターンの検査方法および検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-364073   出願人：株式会社日立製作所