特許

J-GLOBAL ID：201103039203610553

研磨用組成物

発明者： 太田 勇夫 ,  西村 透 ,  渡部 淑胤 ,  鹿島 吉恭 ,  江間 希代巳 ,  大森 豊
出願人/特許権者： 日産化学工業株式会社
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-188562
公開番号（公開出願番号）：特開2001-011433
特許番号：特許第4132432号
出願日： 1999年07月02日
公開日（公表日）： 2001年01月16日
請求項（抜粋）：

【請求項1】シリカゾルを含むアルミニウムディスクの研磨用組成物において、 シリカゾルが、平均粒子径10〜120nmの球状コロイダルシリカ粒子とこの球状コロイダルシリカ粒子を接合する金属酸化物含有シリカからなり、動的光散乱法による測定粒子径(D1nm)と球状コロイダルシリカ粒子の平均粒子径(窒素吸着法による測定粒子径/D2nm)の比D1/D2が3以上であって、このD1は50〜800nmであり、球状コロイダルシリカ粒子が一平面内のみにつながった数珠状コロイダルシリカ粒子が水中に分散した安定なシリカゾルであること、及び 該数珠状コロイダルシリカ粒子を、0.5〜50重量%のSiO2 濃度に有することを特徴とするアルミニウムディスクの研磨用組成物。

IPC (4件)：

C09K 3/14 ( 200 6.01) ,  B24B 37/00 ( 200 6.01) ,  H01L 21/304 ( 200 6.01) ,  G11B 5/84 ( 200 6.01)

FI (5件)：

C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 Z ,  B24B 37/00 H ,  H01L 21/304 622 D ,  G11B 5/84 A

引用特許：

出願人引用 (6件)

• 特開平1-317115
  
• 特開平1-294515
  
• 特開平4-065314
  
• 細長い形状のシリカゾルの製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-280703   出願人：日産化学工業株式会社
• 研磨用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-008771   出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド
• 研磨剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-288633   出願人：株式会社トクヤマ