光学素子の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：日比谷征彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-099309
公開番号（公開出願番号）：特開2000-292613
特許番号：特許第3368227号
出願日： 1999年04月06日
公開日（公表日）： 2000年10月20日
請求項（抜粋）：

【請求項1】光学系において使用する屈折型又は回折型の光学素子を製造する方法であって、前記光学系で使用する際の前記光学素子の変形を相殺する方向の応力を有する膜を前記光学素子の表面に成膜する工程と、前記光学素子に対する応力を調整するために前記膜をエッチングする工程とを有することを特徴とする光学素子の製造方法。

IPC (4件)：