プラズマ処理室用の高スパッタリング・エッチング抵抗窓部

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：五十嵐孝雄 , 下出隆史 , 市川浩 , 加藤光宏
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-556388
特許番号：特許第4558202号
出願日： 1999年06月22日
請求項（抜粋）：

【請求項1】プラズマ処理室の窓部であって、プラズマ処理室内に形成されているエッチングプラズマに対して、第1の電気的厚さと第1の抵抗率とを有する第1の誘電体部と、前記第1の誘電体部内に配置されて、前記第1の電気的厚さよりも薄い第2の電気的厚さを有するように前記第1の誘電体部よりも物理的に薄く、実質的に透明な材料で形成される第2の誘電体部と、を備えるプラズマ処理室の窓部。

IPC (3件)：