特許
J-GLOBAL ID：201103041024790420
ビーム形状補正光学系および描画装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金井 英幸
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-001579
公開番号（公開出願番号）：特開2000-199848
特許番号：特許第3728124号
出願日： 1999年01月07日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
請求項（抜粋）：
【請求項1】第1入射端面を有し、その第1入射端面に第1所定方向から入射された平行ビームを、前記第1所定方向と直交する第1倍率方向にのみm倍した平行ビームに変換する第1アナモフィックビームエキスパンダと、この第1アナモフィックビームエキスパンダを、前記第1入射端面を通り、前記第1所定方向と平行な軸である第1回転軸の周りで回転可能な形態で保持する第1保持部と、第2入射端面を有し、その第2入射端面に第2所定方向から入射された平行ビームを、前記第2所定方向と直交する第2倍率方向にのみn倍した平行ビームに変換する第2アナモフィックビームエキスパンダと、この第2アナモフィックビームエキスパンダを、前記第2入射端面を通り、前記第2所定方向と平行、且つ、前記第1回転軸と同軸に設定された第2回転軸の周りで回転可能な形態で保持する第2保持部とを備えることを特徴とするビーム形状補正光学系。
IPC (5件)：
G02B 13/08
, G02B 3/06
, G02B 13/12
, B41J 2/44
, G02B 26/10
G02B 13/08
, G02B 3/06
, G02B 13/12
, B41J 3/00 D
, G02B 26/10 D
