流動床用光触媒顆粒

発明者： , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (2件)：高橋祥泰 (外1名) , 高橋祥泰 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-092216
公開番号（公開出願番号）：特開2000-279821
特許番号：特許第3231733号
出願日： 1999年03月31日
公開日（公表日）： 2000年10月10日
請求項（抜粋）：

【請求項1】被処理液中において流動させながら,光照射を行ない,上記被処理液を浄化処理するための流動床用光触媒顆粒であって,該流動床用光触媒顆粒は,2nm以下のミクロポアを多数有する下記の特定のシリカ1次粒子が,ファンデルワールス力によって多数互いに凝集することにより形成された多孔質シリカ粒子担体と,該多孔質シリカ粒子担体に焼結によって担持させた光触媒成分とよりなり,かつ上記シリカ1次粒子は板状シリカ,鎖状シリカ,又は針状シリカのいずれかであり,また,上記シリカ1次粒子は,ファンデルワールス力によって多数互いに凝集して2〜50nmのメソポアを有する2次粒子を形成し,更に2次粒子が多数凝集して0.1〜1μmのマクロポアを有する多孔質シリカ粒子担体を形成していることを特徴とする流動床用光触媒顆粒。

IPC (4件)：

B01J 35/02 , B01J 21/08 , C02F 1/32 , C02F 1/72 101

FI (4件)：

B01J 35/02 J , B01J 21/08 M , C02F 1/32 , C02F 1/72 101

引用特許：

審査官引用 (7件)

光触媒反応槽
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-180981 出願人：栗田工業株式会社
水処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-264145 出願人：工業技術院長, 株式会社ブリヂストン
オゾンと光触媒を利用した促進酸化処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-052652 出願人：株式会社明電舎

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