特許
J-GLOBAL ID：201103041432678468
無線周波数電場内でメッシュを使用してイオン操作を行う方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
斎藤 侑
, 伊藤 文彦
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-521071
公開番号（公開出願番号）：特表2011-529623
出願日： 2008年07月28日
公開日（公表日）： 2011年12月08日
要約：
イオン操作システムが、メッシュを貫通するRF電場によるイオン反発を含む。別のイオン操作システムは、メッシュのまわりの対称RF電場内にイオンを捕捉することを含む。システムは、巨視的部品、即ち容易に入手可能な微細メッシュ、又はMEMS若しくは柔軟PCB方法によって作成された小型化装置を使用する。一用途は、中間及び高ガス圧力での収束によるガスイオン源からのイオン移動である。別の用途は、トラップ配列内でのTOF MS用のパルスイオンパケットの形成である。そのような捕捉は、RF電場のパルススイッチングと、好ましくはパルス蒸気脱離によって形成されたガスパルスとを伴うことが好ましい。フラグメンテーション又はイオン・粒子間反応への露出の際及び質量分離のためのイオン誘導、イオン流操作、捕捉、パルスイオンパケットの作成、イオン閉じ込めが開示される。イオンクロマトグラフィは、質量依存ウェル深さを有する1組の多重トラップを通るガス流内のイオン通路を使用する。【選択図】図5A
請求項（抜粋）：
イオンマニピュレータであって、
メッシュ電極と、
前記メッシュ電極の一方の側の近くに位置決めされた第2の電極と、
前記メッシュ電極と第2の電極の間に結合された無線周波数電圧源とを有するイオンマニュピレータ。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01J49/06
, G01N27/62 G
, G01N27/62 K
2G041CA01
, 2G041DA05
, 2G041DA09
, 2G041DA13
, 2G041DA18
, 2G041GA03
, 2G041GA05
, 2G041GA06
, 2G041GA08
, 2G041GA29
, 5C038FF13
