特許
J-GLOBAL ID：201103042036580761

処理装置および処理方法

発明者：
横山 芳昭

横山 芳昭 について


出願人/特許権者：
株式会社豊栄商会

株式会社豊栄商会 について


代理人 (1件)： 大森 純一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-264851
公開番号（公開出願番号）：特開2001-087734
特許番号：特許第3310245号
出願日： 1999年09月20日
公開日（公表日）： 2001年04月03日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 処理対象物体を減圧下で加熱処理する処理装置において、第1の加熱手段と第1の排気手段とを備えた第1の室と、第2の加熱手段と第2の排気手段とを備えた第2の室と、前記第1の室と前記第2の室との間に介挿され、第3の排気手段を備え、前記第1の室および第2の室を経由することなく外部とアクセス可能な第1のパージ室とを具備し、前記第2の室は、前記パージ室とは異なる第3の室または外部から前記パージ室を経由することなくアクセス可能であることを特徴とする処理装置。
IPC (5件)：
B01J 19/00 301 ,  B01J 3/00 ,  B01J 4/00 102 ,  B09B 3/00 ,  B09B 3/00 302
FI (6件)：
B01J 19/00 301 Z ,  B01J 3/00 J ,  B01J 4/00 102 ,  B09B 3/00 302 F ,  B09B 3/00 ZAB ,  B09B 3/00 303 A
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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