特許

J-GLOBAL ID：201103042484391856

反応現像画像形成法

発明者： 大山 俊幸 ,  小澤 瞬
出願人/特許権者： 国立大学法人横浜国立大学
代理人 (2件)： 下田 昭 ,  赤尾 謙一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-107822
公開番号（公開出願番号）：特開2011-237550
出願日： 2010年05月10日
公開日（公表日）： 2011年11月24日
要約：

【課題】ネガ型反応現像画像形成法において、紫外線照射後の露光部と非露光部の現像液に対する溶解性に差を持たせることにより、形成されるフォトレジストの適正な現像時間を確保する手段の提供。【解決手段】基板上に、特定構造のポリエステル系樹脂及びジアゾナフトキノンなどの光酸発生剤を含むフォトレジスト層を設け、所望のパターンでマスクし、このパターン面に紫外線を照射して、テトラ置換アンモニウムヒドロキシド、低分子アルコール及び水を含む溶媒から成る液体を用いて現像する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ポリエステル系樹脂及び光酸発生剤を含むフォトレジスト組成物であって、該ポリエステル系樹脂が、少なくとも1種の下記構造式

IPC (4件)：

G03F 7/038 ,  G03F 7/022 ,  C08G 63/193 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/038 ,  G03F7/022 501 ,  C08G63/193 ,  H01L21/30 502R

Fターム (21件)：

2H125AF02P ,  2H125AM62P ,  2H125AN61P ,  2H125AN84P ,  2H125CA11 ,  2H125CB05 ,  2H125CB06 ,  2H125CC01 ,  2H125CC21 ,  2H125FA06 ,  4J029AA03 ,  4J029AA04 ,  4J029AB07 ,  4J029AC01 ,  4J029AC02 ,  4J029AD01 ,  4J029AE18 ,  4J029BB11C ,  4J029BB13A ,  4J029CB06A ,  4J029HB05