特許
J-GLOBAL ID:201103042625971274
硬質の基板上に光成形面構造体をコピーするための方法および装置
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
, 江口 昭彦
, 内藤 和彦
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-566107
特許番号:特許第4437615号
出願日: 1999年08月24日
請求項(抜粋):
【請求項1】 光成形面構造体をコピーする方法であって、
(A)1)テーブル上に支持されている硬質の基板と、2)前記テーブルに面し、表面上に前記光成形面構造体を持つサブマスタと、3)前記基板と前記サブマスタとの間に塗布されたエポキシ層とを含む層状構造体を、圧縮ローラの外表面と前記テーブルとの間に形成されたニップ内に位置させるステップと、
(B)前記基板と前記サブマスタとの間の相対的な摺動を防止しつつ、前記圧縮ローラに対し前記テーブルを直線移動させると共に前記圧縮ローラを固定軸を中心として回転させながら、前記エポキシ層上に前記光成形面構造体をコピーするように前記ニップ内で前記層状構造体を自動的に圧縮するステップと、
(C)前記エポキシ層を硬化するステップと、
(D)前記基板から前記サブマスタを分離するステップと
を含む方法。
IPC (8件):
B29C 39/10 ( 200 6.01)
, B29C 39/24 ( 200 6.01)
, B29C 39/26 ( 200 6.01)
, B29C 59/02 ( 200 6.01)
, B29K 63/00 ( 200 6.01)
, B29K 105/20 ( 200 6.01)
, B29L 9/00 ( 200 6.01)
, B29L 11/00 ( 200 6.01)
FI (8件):
B29C 39/10
, B29C 39/24
, B29C 39/26
, B29C 59/02 B
, B29K 63:00
, B29K 105:20
, B29L 9:00
, B29L 11:00
引用特許:
出願人引用 (3件)
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特開平2-070412
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特開平1-174418
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微細パタ-ンの転写加工方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-122371
出願人:株式会社荏原製作所, 畑村洋太郎
審査官引用 (5件)
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特開平2-070412
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特開平1-174418
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特開平2-070412
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特開平1-174418
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微細パタ-ンの転写加工方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-122371
出願人:株式会社荏原製作所, 畑村洋太郎
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