特許
J-GLOBAL ID：201103042632672983
薄膜形成装置および薄膜形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
川崎 実夫
, 稲岡 耕作
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-296037
公開番号（公開出願番号）：特開2003-100737
特許番号：特許第4043010号
出願日： 2001年09月27日
公開日（公表日）： 2003年04月04日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板上に複数の薄膜を形成するための薄膜形成装置であって、
上記基板上において同一層内に形成されるべき異種類の膜を含む複数の薄膜を担持する転写部材と、
この転写部材と基板とを密着させて上記転写部材に担持されている複数の薄膜を当該基板に一括転写する転写機構とを含むことを特徴とする薄膜形成装置。
IPC (5件)：
H01L 21/312 ( 200 6.01)
, G02F 1/1345 ( 200 6.01)
, H01L 21/768 ( 200 6.01)
, H01L 23/522 ( 200 6.01)
, H01L 23/12 ( 200 6.01)
H01L 21/312 A
, G02F 1/134
, H01L 21/90 Z
, H01L 23/12 501 Z
