特許
J-GLOBAL ID:201103042839994468

基板の洗浄方法及び洗浄装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 原 謙三
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-266978
公開番号(公開出願番号):特開2001-087719
特許番号:特許第3474495号
出願日: 1999年09月21日
公開日(公表日): 2001年04月03日
請求項(抜粋):
【請求項1】被洗浄基板を洗浄チャンバーの蓋として使用し、その洗浄チャンバー内で被洗浄基板の洗浄及び乾燥を行う基板の洗浄方法であって、前記被洗浄基板を洗浄チャンバーに装着する際に、被洗浄基板の裏面に補強板を当接して被洗浄基板を補強することを特徴とする基板の洗浄方法。
IPC (3件):
B08B 1/04 ,  B08B 3/02 ,  G02F 1/13 101
FI (3件):
B08B 1/04 ,  B08B 3/02 A ,  G02F 1/13 101
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 特開昭54-120867
  • 特開平1-238122
  • 乾燥処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-186024   出願人:東京エレクトロン株式会社
審査官引用 (5件)
  • 特開昭54-120867
  • 特開昭54-120867
  • 特開平1-238122
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