特許
J-GLOBAL ID:201103044605464727
浴水浄化装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高橋 清
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-383384
公開番号(公開出願番号):特開2003-181463
特許番号:特許第3973416号
出願日: 2001年12月17日
公開日(公表日): 2003年07月02日
請求項(抜粋):
【請求項1】 浴槽の浴水を取り込み、浄化した後に浴槽に戻す浴水の循環経路を有する浴水浄化装置において、
前記浴水の循環経路から、必要に応じて適宜浴水を採取する装置と、
該採取した採取浴水を保持する測定タンクと、
該測定タンクに設けられ、該採取された採取浴水の塩素濃度を測定するセンサと、
該測定タンクに塩素を注入する手段と、
該測定タンクに注入されたタンク注入塩素量と前記センサにより測定された採取浴水塩素濃度に基づいて、浴水を所定塩素濃度にするために必要である前記浴水の循環経路から浴水に注入すべき塩素量を算出する装置と、
該算出された塩素量に基づいて、前記浴水の循環経路から浴水に塩素を注入する装置と、
を備えたことを特徴とする浴水浄化装置。
IPC (4件):
C02F 1/50 ( 200 6.01)
, A47K 3/00 ( 200 6.01)
, A61H 33/00 ( 200 6.01)
, C02F 1/76 ( 200 6.01)
FI (12件):
C02F 1/50 550 L
, C02F 1/50 510 A
, C02F 1/50 520 L
, C02F 1/50 531 P
, C02F 1/50 540 B
, C02F 1/50 550 C
, C02F 1/50 560 A
, C02F 1/50 560 Z
, A47K 3/00 K
, A47K 3/00 M
, A61H 33/00 G
, C02F 1/76 A
引用特許:
出願人引用 (4件)
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水質維持装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-190926
出願人:日立テクノエンジニアリング株式会社, 九州日立マクセル株式会社
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特開平2-263149
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浴水浄化装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-285038
出願人:蛇の目ミシン工業株式会社
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残留塩素濃度測定装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-229377
出願人:株式会社ノーリツ, 株式会社タクミナ
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審査官引用 (1件)
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水質維持装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-190926
出願人:日立テクノエンジニアリング株式会社, 九州日立マクセル株式会社
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