特許

J-GLOBAL ID：201103045258503829

可変面積型電子ビーム描画装置を用いた描画方法

発明者： 脇本 治
出願人/特許権者： 日本電子株式会社
代理人 (2件)： 井島 藤治 ,  鮫島 信重
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-328775
公開番号（公開出願番号）：特開2003-133213
特許番号：特許第4006216号
出願日： 2001年10月26日
公開日（公表日）： 2003年05月09日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 電子ビームを矩形開口を有した第1のスリットを通過させ、矩形の電子ビームを第2のスリットに照射し、第2のスリットの開口を通過した電子ビームを被描画材料上に照射するように構成されており、第2スリットを通過した電子ビームの断面形状を矩形と二等辺直角三角形に成形しうる可変面積型電子ビーム装置において、台形の図形データの内の、斜辺と底辺の法線との成す角度が45度である平行四辺形について、平行四辺形の底辺の長さを分割長として縦方向に平行四辺形図形を分割し、残りの長さが分割長の2倍以下になった場合、残りの図形を高さ方向に2分の1に分割し、前者の分割による高さが前記分割長と等しい平行四辺形図形は三角形ビームで描画し、後者の分割による二つの図形については、両斜辺部分を切り離し、両斜辺部分を三角形ビームで描画し、斜辺部分が切り離された矩形部分を矩形ビームで描画するようにした可変面積型電子ビーム描画装置を用いた描画方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  H01J 37/09 ( 200 6.01) ,  H01J 37/305 ( 200 6.01)

FI (5件)：

H01L 21/30 541 M ,  H01L 21/30 541 Q ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/09 A ,  H01J 37/305 B

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭60-030131
  
• 電子ビーム露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-239561   出願人：株式会社東芝
• 特開平4-188714
  
• 特開昭62-154729