特許
J-GLOBAL ID：201103045982182678
排気還流装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (19件)：
蔵田 昌俊
, 河野 哲
, 中村 誠
, 福原 淑弘
, 峰 隆司
, 白根 俊郎
, 村松 貞男
, 野河 信久
, 幸長 保次郎
, 河野 直樹
, 砂川 克
, 勝村 紘
, 河井 将次
, 佐藤 立志
, 岡田 貴志
, 堀内 美保子
, 竹内 将訓
, 市原 卓三
, 山下 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-259241
公開番号（公開出願番号）：特開2011-106291
出願日： 2009年11月12日
公開日（公表日）： 2011年06月02日
要約：
【課題】本発明は、吸気通路内にEGRガスを効率よく導入しつつ、吸気通路と循環通路との連結部の直ぐ下流においても吸気通路の流路断面内での流速分布が不均一になることを抑制できる排気還流装置を提供する。【解決手段】低圧EGR装置50は、吸気通路23と、吸気通路23の周方向Aに沿って延びて環状に形成され、内側に吸気通路23を囲む環状流路62と、吸気通路23と環状流路62とを連通する流入口63と、排出ガスGを該環状流路62内に導く排出ガス導入路80と備える。流入口63は、排出ガス導入流路80から環状流路62に流入する排気ガスGの流れに対し周方向のうちの一方向A1に沿って上流から下流に進むにつれて開口面積を大きくする。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
吸気が流動する吸気通路と、
前記吸気通路の周方向に沿って延びて環状に形成され、内側に前記吸気通路を囲む環状流路と、
前記吸気通路と前記環状流路との間に形成され、前記吸気通路と前記環状流路とを連通する流入口と、
前記環状流路に連通し、前記周方向のうち一方向に流れるように前記排出ガスを該環状流路内に導く排出ガス導入路と
を具備し、
前記流入口は、前記排出ガス導入流路から前記環状流路に流入する排気ガスの流れに対し前記一方向に沿って上流から下流に進むにつれて開口面積を大きくした
ことを特徴とする排気還流装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
F02M25/07 580B
, F02M35/10 301T
