特許
J-GLOBAL ID:201103046086356507
ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
高松 猛
, 矢澤 清純
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-217966
公開番号(公開出願番号):特開2011-018078
出願日: 2010年09月28日
公開日(公表日): 2011年01月27日
要約:
【課題】感度、残膜率、保存安定性に優れた、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法であって、硬化させることにより耐熱性、密着性、透過率などに優れる硬化膜が得られる、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法を提供することである。【解決手段】解離性基が解離することで、カルボキシル基を生じる特定のアクリル酸系構成単位とカルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、かつ、酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、及び、それを用いた硬化膜形成方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
(A)酸解離性基を有する下記一般式(1)で表される構成単位と、カルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位とを含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、かつ、当該酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、及び、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する下記一般式(2)で表されるオキシムスルホネート基を含む化合物を少なくとも含有するポジ型感光性樹脂組成物であって、前記カルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位が、下記一般式(3)又は(5)で表されるラジカル重合性単量体を用いて形成される、官能基としてエポキシ基を含有する構成単位であるポジ型感光性樹脂組成物。
IPC (6件):
G03F 7/039
, G03F 7/004
, G03F 7/075
, G03F 7/40
, H01L 21/027
, C08F 220/32
FI (6件):
G03F7/039 601
, G03F7/004 503A
, G03F7/075 501
, G03F7/40 501
, H01L21/30 502R
, C08F220/32
Fターム (66件):
2H096AA25
, 2H096BA11
, 2H096EA02
, 2H096GA09
, 2H096HA01
, 2H096HA03
, 2H125AC23
, 2H125AE13P
, 2H125AE18P
, 2H125AF20P
, 2H125AF21P
, 2H125AF35P
, 2H125AF52P
, 2H125AF70P
, 2H125AH05
, 2H125AH06
, 2H125AH07
, 2H125AH12
, 2H125AH16
, 2H125AJ04X
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ14Y
, 2H125AJ44Y
, 2H125AJ45Y
, 2H125AJ48X
, 2H125AJ63X
, 2H125AJ64X
, 2H125AJ64Y
, 2H125AJ68X
, 2H125AJ70X
, 2H125AM27P
, 2H125AM66P
, 2H125AN36P
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN65P
, 2H125AN82P
, 2H125AN85P
, 2H125BA01P
, 2H125BA05P
, 2H125BA22P
, 2H125BA26P
, 2H125BA32P
, 2H125BA33P
, 2H125CA12
, 2H125CB06
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 4J100AJ02S
, 4J100AL08P
, 4J100AL08R
, 4J100AL10Q
, 4J100BA03R
, 4J100BA04P
, 4J100BC04P
, 4J100BC43R
, 4J100BC53P
, 4J100BC54Q
, 4J100CA04
, 4J100CA05
, 4J100CA06
, 4J100DA01
, 4J100DA04
, 4J100FA03
, 4J100FA19
, 4J100JA38
引用特許:
引用文献:
出願人引用 (1件)
-
Photoacid Generators forMicrolithography, 2006
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