特許
J-GLOBAL ID:201103046279952255

偽造防止構造体及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-182515
公開番号(公開出願番号):特開2011-031574
出願日: 2009年08月05日
公開日(公表日): 2011年02月17日
要約:
【課題】パターン反射層で構成される第一領域と、光学効果を有するパターン光学層の一部で構成される第二領域とを位置精度良く設けることが可能であり、意匠性が高く、第二領域における種々の変化を視認性良好な状態で確認することができるようにした偽造防止構造体、及びその製造方法の提供を課題とする。【解決手段】透明性を有する支持基材上に、所定形状のパターン反射層と、このパターン反射層と相似の形状であって、パターン寸法がパターン反射層より大きいパターン光学層とがこの順で少なくとも積層されていると共に、パターン反射層はパターン光学層で全体が覆われていて、パターン反射層で構成される第一領域の周縁部に位置するパターン光学層の部分で構成される第二領域のみが、支持基材側から観察した場合に電磁波の照射により他の領域と異なって観察されるようになっていることを特徴とする偽造防止構造体。【選択図】図1
請求項(抜粋):
透明性を有する支持基材上に、所定形状のパターン反射層と、このパターン反射層と相似の形状であって、パターン寸法がパターン反射層より大きいパターン光学層とがこの順で少なくとも積層されていると共に、パターン反射層はパターン光学層で全体が覆われていて、パターン反射層で構成される第一領域の周縁部に位置するパターン光学層の部分で構成される第二領域のみが、支持基材側から観察した場合に電磁波の照射により他の領域と異なった状態で観察されるようになっていることを特徴とする偽造防止構造体。
IPC (4件):
B42D 15/10 ,  G03H 1/18 ,  G02B 5/18 ,  G02B 5/32
FI (5件):
B42D15/10 531B ,  B42D15/10 501G ,  G03H1/18 ,  G02B5/18 ,  G02B5/32
Fターム (11件):
2C005HA02 ,  2C005HB01 ,  2C005HB10 ,  2C005JB08 ,  2C005JB09 ,  2C005JB13 ,  2C005JB14 ,  2C005KA48 ,  2H249AA60 ,  2H249CA22 ,  2K008AA13
引用特許:
審査官引用 (7件)
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