特許

J-GLOBAL ID：201103046611953520

印刷用マスクの製造方法及び該方法により製造した印刷用マスク

発明者： 木下 真言
出願人/特許権者： リコーマイクロエレクトロニクス株式会社
代理人 (1件)： 黒田 壽
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-005212
公開番号（公開出願番号）：特開2000-202981
特許番号：特許第4297538号
出願日： 1999年01月12日
公開日（公表日）： 2000年07月25日
請求項（抜粋）：

【請求項1】マスク材に所定パターンの貫通開口部を形成し、該開口部に該開口部内壁保護用樹脂を充填したのち、ハーフエッチング加工を行う印刷用マスクの製造方法において、 上記マスク材の第1の面に表面保護用プラスチックフィルムを貼付する工程と、次いで、該第1の面と反対側の第2の面を上にして上記開口部に上記樹脂を充填する工程と、次いで、該第2の面に該フィルムを貼付する工程と、次いで、該第1の面より該フィルムを除去する工程と、次いで、該第1の面を加工面としてハーフエッチング加工を行う工程とを含むことを特徴とする印刷用マスクの製造方法。

IPC (3件)：

B41C 1/14 ( 200 6.01) ,  H05K 3/12 ( 200 6.01) ,  H05K 3/34 ( 200 6.01)

FI (3件)：

B41C 1/14 101 ,  H05K 3/12 610 P ,  H05K 3/34 505 D

引用特許：

出願人引用 (1件)

• メタルマスクの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-023642   出願人：九州日立マクセル株式会社