特許
J-GLOBAL ID:201103046820209870
スルホン酸ジアミドの製法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
平木 祐輔
, 石井 貞次
, 藤田 節
, 新井 栄一
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-528412
公開番号(公開出願番号):特表2011-500536
出願日: 2008年10月10日
公開日(公表日): 2011年01月06日
要約:
本発明は一般式Iのスルホン酸ジアミドの製法に関するR1R2N-S(O)2-NH2 (I)式中、R1及びR2はそれぞれ独立に1〜8の炭素原子を持つ第一級アルキルラジカル、3〜8の炭素原子を持つ第二級アルキルラジカル若しくは5〜8の炭素原子を持つシクロアルキルラジカル、又は、窒素原子と共に、5〜8員の飽和窒素へテロ環を形成する。このヘテロ環は、窒素原子の他に、環員としてO及びSから選択される他のヘテロ原子を有してもよい。また窒素へテロ環は非置換、又は置換基としてそれぞれ1〜4の炭素原子を持つ1、2、3又は4つのアルキル基を有してもよい。製法は下記段階からなる:i) 式IIの第二級アミンR1R2NH (II) 式中、R1及びR2はそれぞれ上記に規定される、が不活性溶媒、特に芳香族溶媒中において第三級アミン存在下で塩化スルフリルと反応し、式IIIR1R2N-S(O)2-Cl (III)式中、R1及びR2はそれぞれ上記に規定される、の塩化スルファモイルを得る反応、並びにii) 段階 i)で得られた式IIIの塩化スルファモイルのアンモニアとの反応、ここで式IIIの塩化スルファモイルは、段階 ii)において、不活性溶媒、特に芳香族溶媒中で、段階 i)で得られた溶液の形で使用する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記段階を含んでなる、式Iのスルホン酸ジアミドの製法。
R1R2N-S(O)2-NH2 (I)
式中、R1及びR2はそれぞれ独立に1〜8の炭素原子を持つ第一級アルキルラジカル、3〜8の炭素原子を持つ第二級アルキルラジカル若しくは5〜8の炭素原子を持つシクロアルキルラジカルであるか、又は、窒素原子と共に、5〜8員の飽和窒素へテロ環を形成し、このヘテロ環は、窒素原子の他に、環員としてO及びSから選択される他のヘテロ原子を有してもよく、また窒素へテロ環は置換基としてそれぞれ1〜4の炭素原子を持つ1、2、3又は4つのアルキル基を有してもよい。
i) 式IIの第二級アミン
R1R2NH (II)
IPC (5件):
C07C 303/38
, C07C 307/06
, A01N 43/54
, A01P 13/00
, C07D 239/54
FI (5件):
C07C303/38
, C07C307/06
, A01N43/54 F
, A01P13/00
, C07D239/54 Z
Fターム (14件):
4H006AA02
, 4H006AB04
, 4H006AC61
, 4H006AD16
, 4H006BA51
, 4H006BB12
, 4H006BC31
, 4H006BC34
, 4H006BE14
, 4H011AB01
, 4H011BB09
, 4H039CA80
, 4H039CD20
, 4H039CE30
引用特許:
引用文献:
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