特許
J-GLOBAL ID:201103047154057951
エピタキシャル蛍光体薄膜及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (3件):
平山 一幸
, 平山 一幸
, 海津 保三
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-190271
公開番号(公開出願番号):特開2003-003159
特許番号:特許第3608196号
出願日: 2001年06月22日
公開日(公表日): 2003年01月08日
請求項(抜粋):
【請求項1】単結晶基板と、この単結晶基板上にエピタキシャル成長した蛍光体薄膜とからなり、この蛍光体薄膜は、上記単結晶基板の結晶構造により、上記蛍光体の焼結体粉末の結晶構造とは異なる結晶構造を有し、この異なる結晶構造によって、上記蛍光体薄膜は上記蛍光体の焼結体粉末の発光強度より増大した発光強度を有することを特徴とする、エピタキシャル蛍光体薄膜。
IPC (2件):
FI (2件):
C09K 11/00 A
, C09K 11/67 CPQ
引用特許:
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