特許

J-GLOBAL ID：201103047859474365

加熱処理装置

発明者： 磧本 栄一 ,  田上 光広
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 大森 純一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-216746
公開番号（公開出願番号）：特開2000-146444
特許番号：特許第3634983号
出願日： 1999年07月30日
公開日（公表日）： 2000年05月26日
請求項（抜粋）：

【請求項1】被処理体が載置され加熱される第1の領域を有する加熱処理領域と、前記第1の領域及びこの第1の領域を取り囲む第2の領域と対面するように設けられた排気孔を有する排気カバーと、前記排気孔を介して前記第1及び第2の領域の排気を行う排気手段と、前記被処理体を加熱する際に、前記第1の領域の外周と前記排気カバーとの隙間を塞ぐシャッター部材とを具備することを特徴とする加熱処理装置。

IPC (3件)：

F26B 21/00 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/30

FI (3件)：

F26B 21/00 H ,  H01L 21/30 567 ,  G03F 7/30 501

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 基板熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-159860   出願人：大日本スクリーン製造株式会社